能制造55纳米芯片。
采用多重曝光技术,也仅仅能生产45纳米芯片。
而此时阿尔斯麦公司生产的EUV光刻机,已经能生产7纳米芯片。
差距巨大!
第4143章 精密微系统工程专业博士 红尘小吏
能制造55纳米芯片。
采用多重曝光技术,也仅仅能生产45纳米芯片。
而此时阿尔斯麦公司生产的EUV光刻机,已经能生产7纳米芯片。
差距巨大!
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